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XPM-Φ120×3三頭(tóu)研磨機主要設計用途
更新時(shí)間:2025-03-20
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XPM-Φ120×3三(sān)頭研磨機設計用途
一(yī),主(zhǔ)要(yào)應(yīng)用(yòng)領(lǐng)域
實(shí)驗室分析:
專為(wéi)冶(yě)金,建(jiàn)材(cái),化工,煤炭,水電(diàn),商(shāng)檢及地質等領域實驗(yàn)室設(shè)計,用於磨(mó)細分(fēn)析樣(yàng)品(pǐn),滿足(zú)行業檢(jiǎn)測(cè)標準(zhǔn)。
可(kě)處(chǔ)理少量(liáng)物料(liào),適配(pèi)實驗室(shì)小批(pī)量樣品製備(bèi)需求12。
二(èr),特殊設(shè)計(jì)優(yōu)勢
幹法研磨技術:
采用(yòng)幹法研磨機(jī)製(zhì),避免(miǎn)液體介質(zhì)幹擾,適(shì)用於需保留原(yuán)始(shǐ)成分(fēn)的樣(yàng)品(pǐn)處理。
研(yán)棒與研缽同向旋(xuán)轉(順(shùn)時針(zhēn)),通過相對滑動(dòng)和自(zì)重(zhòng)壓(yā)力實(shí)現高(gāo)效破(pò)碎(suì)。
低汙染(rǎn)材(cái)質:
默認(rèn)配(pèi)置瑪瑙研(yán)缽(bō)和(hé)研(yán)棒(bàng),減少(shǎo)金屬(shǔ)汙染,確保(bǎo)研(yán)磨(mó)後(hòu)物料(liào)純度,尤其適合(hé)化(huà)學分(fēn)析(xī)及(jí)精(jīng)密實(shí)驗。

三(sān),適(shì)用物料(liào)類型(xíng)
礦(kuàng)石(shí)與(yǔ)岩(yán)石(shí):如金(jīn)屬(shǔ)礦(kuàng),非(fēi)金屬礦及地質(zhì)樣(yàng)本。
工業(yè)材料(liào):包括水泥(ní),陶瓷(cí),煤炭(tàn)等(děng)無(wú)機非金屬材(cái)料。
土壤(rǎng)與環境(jìng)樣本(běn):用於土壤(rǎng)成分分析及(jí)環境(jìng)檢測(cè)5。
四,擴(kuò)展應用場景
科研與(yǔ)教育:支持(chí)機械,電(diàn)子,航(háng)空等跨(kuà)學科研(yán)究,適(shì)配(pèi)高(gāo)校及(jí)科研(yán)機構實(shí)驗需求(qiú)。
質量控(kòng)製(zhì):商檢(jiǎn)部門用於(yú)商(shāng)品成(chéng)分(fēn)驗證,確保材(cái)料符合行業規範(fàn)。
四(sì),技(jì)術參數(shù):
研缽(bō)直(zhí)徑(jìng):120mm
磨(mó)頭(tóu)數:3個
研棒轉速:220r/min
研缽轉速:9r/min
電動機型號:AAO2 712S 4/8 370W
電動機轉(zhuǎn)速:1400r/min

注(zhù)意事項:
1,磨頭(tóu)抬起(qǐ)時,必(bì)須擱穩;磨頭(tóu)放(fàng)下(xià)和研缽復位(wèi)時(shí),必(bì)須輕放。否(fǒu)則將會損(sǔn)壞研(yán)缽(圖4:03-7)和研棒(bàng)(圖(tú)3:01-6)。
2,工作完畢(bì)後,必(bì)須將磨頭放下,斷(duàn)開(kāi)三個摩擦離(lí)合器(qì),並檢查(chá)電源(yuán)開(kāi)關是(shì)否已(yǐ)經關閉。用機(jī)罩將設備罩好。
3,電動機和(hé)研磨機上的(dí)軸承(chéng),每(měi)1~2年必須(xū)檢(jiǎn)修保養(yǎng),清洗(xǐ)換油一次(cì)。
五(wǔ),安(ān)全規(guī)程(chéng)
1,操作本(běn)機的(dí)人員,須(xū)經過安全(quán)技術(shù)教育(yù),並(bìng)仔細閱(yuè)讀(dú)本說明書(shū)。
2,設備(bèi)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)嚴(yán)禁維修(xiū),拆卸設備。
3,本機器的電器設施應良好接地,電綫轉(zhuǎn)入絕緣管(guǎn)內。
4,根據國(guó)家(jiā)標準(zhǔn)規(guī)定(dìng),電器安全(quán)保護裝(zhuāng)置(zhì)和(hé)人身安(ān)全保(bǎo)護裝置(zhì)用(yòng)戶(hù)要(yào)自(zì)行根據現場情(qíng)況予以(yǐ)解(jiě)決(jué)再次檢查設置(zhì)。依據工作(zuò)華寧(níng)檢(jiǎn)查(chá)原設備安全防(fáng)護(hù)裝(zhuāng)置是(shì)否合理(lǐ),完好,發現隱(yǐn)患(huàn)時,應立(lì)即排除。
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